用于持续沉积的设备和过程中CdTe的时间上可变的沉积速率

摘要

本发明名称为“用于持续沉积的设备和过程中CdTe的时间上可变的沉积速率”。一般地提供用于将升华的源材料气相沉积为光伏模块基板(14)上的薄膜的设备(100)。该设备(100)包括分发板(152)，分发板(152)设在分发管汇(124)下方以及设在输送通过设备(100)的基板(14)的上表面的水平输送面上方限定的距离处。分发板(152)限定经由其中的通道(153)的样式，该通道的样式配置成对升华的源蒸气流在第一纵向端(160)处比在第二纵向端(161)处提供更大的阻力。还提供一种用于将升华的源材料气相沉积以在光伏模块基板(14)上形成薄膜的过程，该过程通过如下步骤完成：通过分发板(152)将升华的源材料分发到基板(14)的上表面上，分发板(152)位于基板(14)的上表面与容器(116)之间。