用于回旋加速器的剥离靶双层移动机构

摘要

用于回旋加速器的剥离靶双层移动机构，克服了现有技术为单层移动机构，需要超大型设备加工基座才能保证基座的基准面平面度，占地面积大，以及对剥离靶杆的刚性要求较高的问题，特征是在上层移动机构下面设有下层移动机构，通过下层移动托板与上层基座固定连接，在上层基座上还安装有移动支撑座构成对回旋加速器的剥离靶杆的三点支撑结构，有益效果是，使基座的长度缩短一倍，从而降低了基座的基准面平面度加工难度，通用设备就可以进行加工并保证基座的基准面平面度，对回旋加速器的剥离靶杆由两点支撑变为三点支撑，降低了对剥离靶杆的刚性要求，靶杆也相应缩短了下导轨行程的长度，降低了成本，减少了占地面积，也方便安装和运输。