首页> 中国专利> CSD涂布膜除去用液及使用其的CSD涂布膜除去方法以及铁电体薄膜及其制造方法

CSD涂布膜除去用液及使用其的CSD涂布膜除去方法以及铁电体薄膜及其制造方法

摘要

本发明将以混合重量比计含有50∶50~0∶100选自β‐二酮类、β‐酮酸酯类、多元醇类、羧酸类、烷醇胺类、α‐羟基羧酸、α‐羟基羰基衍生物和腙衍生物中的1种或2种以上的有机溶剂与水的CSD涂布膜除去用液喷射或滴加至CSD法中热处理前的基板外周端部,将涂布膜除去、并防止颗粒的发生而不会发生裂纹或局部剥离的情况。

著录项

  • 公开/公告号CN102473625B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2016-05-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 三菱综合材料株式会社;

    申请/专利号CN201080029671.0

  • 发明设计人 曾山信幸;渡边敏昭;樱井英章;

    申请日2010-04-21

  • 分类号

  • 代理机构中国专利代理(香港)有限公司;

  • 代理人庞立志

  • 地址 日本东京都

  • 入库时间 2022-08-23 09:39:31

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-05-11

    授权

    授权

  • 2012-07-04

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/306 申请日:20100421

    实质审查的生效

  • 2012-05-23

    公开

    公开

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