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一种镭雕装置

摘要

本实用新型公开一种镭雕装置,其中,包括:一底座;所述底座的上端面具有一镭雕腔室,所述镭雕腔室为中空结构,并且所述镭雕腔室的一端开口,所述开口与所述中空结构相贯通;一位于所述底座上的滑台,所述滑台上安装待镭雕的工件,所述滑台可滑动地通过所述开口置于所述镭雕腔室的中空结构中;所述镭雕腔室的上端面设有一镭雕仪,所述镭雕仪具有一激光装置,所述激光装置贯穿所述镭雕腔室的上端面,并且正对所述滑台;一中央控制器,所述中央控制器与所述镭雕仪电连接。使用本实用新型一种镭雕装置,通过镭雕腔室和排气管的使用,能够有效地避免镭雕过程中产生的废气随意排放至大气中,造成空气污染。

著录项

  • 公开/公告号CN203511110U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2014-04-02

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 和宏华进纳米科技(上海)有限公司;

    申请/专利号CN201320577688.0

  • 发明设计人 胡光辉;

    申请日2013-09-17

  • 分类号

  • 代理机构上海申新律师事务所;

  • 代理人竺路玲

  • 地址 201500 上海市金山区吕巷镇金张公路3040号

  • 入库时间 2022-08-22 00:04:13

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-09-04

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):B44B1/06 授权公告日:20140402 终止日期:20170917 申请日:20130917

    专利权的终止

  • 2014-04-02

    授权

    授权

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