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一种提高高度的埋栅式金属化电极构造

摘要

一种提高高度的埋栅式金属化电极构造,包括硅片,所述硅片顶端设置有金属电极,金属电极底部与硅片之间设置有子层电极。本实用新型具有结构紧凑、可实施性强、误差性小等特点。其埋入底层的子层电极硬度较高,可以达到塑型的效果;金属电极可以起到增大表面流畅性与圆润型的效果,同时增加了电极的金属化高度,以达到优化电极电阻的效果。当底部子层电极发生偏移,在没有超出金属电极的覆盖范围的情况下,同样可以达到提高金属化电极的效果,这样大大减少了在制备过程中的不良品的比例。并且该电池结构不需要提供额外动力,因而减少了能源损耗,其社会效益及经济效益显著。

著录项

  • 公开/公告号CN203179904U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2013-09-04

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 湖北弘元光伏科技有限公司;

    申请/专利号CN201320012478.7

  • 发明设计人 李国庆;王晨光;

    申请日2013-01-10

  • 分类号H01L31/0224(20060101);

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 433000 湖北省仙桃市刘口工业园1号路

  • 入库时间 2022-08-21 23:53:50

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2015-06-10

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):H01L31/0224 变更前: 变更后: 申请日:20130110

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2013-09-04

    授权

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