法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2016-05-11
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):E04B1/32 授权公告日:20130821 终止日期:20150318 申请日:20130318
专利权的终止
2013-08-21
授权
授权
机译: 用于真空膜沉积设备的防粘板,制造真空膜沉积设备的防粘板的方法,真空膜沉积设备和真空膜沉积方法
机译: 用于真空膜成形装置的防沉积板,制造用于真空膜成形装置的防沉积板的方法,真空膜成形装置和真空膜成形方法
机译: 介电多层膜,具有介电多层膜的玻璃板以及制造具有介电多层膜的玻璃板的方法