一种高真空多靶磁控溅射镀膜机

摘要

本实用新型涉及一种高真空多靶磁控溅射镀膜机。它包括采集监控计算机，该采集监控计算机通过以太网连接西门子S7-300系列315PLC主机，该S7-300系列315PLC主机通过RS232串口连接低温泵机组；该S7-300系列315PLC主机通过还通过PROFIBUS-DP现场总线分别连接从站。它主要解决现有采用的一个PLC主机系统来控制的高真空多靶磁控溅射镀膜机，可靠性降低，抗干扰能力下降增加了系统的不稳定性，同时信息采集量也受到很大程度上的限制，繁琐不易实现信息的共享等技术问题，它使主站和从站之间能够实时高速通讯，实现信息交换，完成信息采集和监控功能的作用；简化走线设计，实现大容量信息交换，控制自如，提高系统的可靠性。