一种提高靶材溅射均匀性的旋转平面磁控溅射靶

摘要

一种提高靶材溅射均匀性的旋转平面磁控溅射靶。包括磁铁在内，其特征在于：还包括平面靶及与平面靶连接的传动系统在内的结构；磁铁固定不动，平面靶通过传动系统绕自己的中心轴进行匀速旋转运动。由于采用旋转平面靶技术，工作时磁铁固定不动，平面靶匀速旋转，使传统平面磁控溅射靶中存在的靶面刻蚀均匀性差，靶材利用率低的现象得到明显的改善，使靶面刻蚀均匀，大大提高靶材的溅射均匀性，同时又提高了靶材利用率。