差分干涉仪模块和具有差分干涉仪模块的光刻系统

摘要

本实用新型涉及一种光刻系统，包括光筒、用于移动目标诸如晶片的可移动目标载体，以及差分干涉仪模块，其中所述干涉仪模块适用于向着第二反射镜发射三个参考射束，并且向着第一反射镜发射三个测量射束，以便确定所述第一反射镜和第二反射镜之间的位移。在一个优选实施例中，相同模块适还用于测量绕着两个垂直轴的相对旋转。本实用新型还涉及一种用于测量这种位移和旋转的干涉仪模块。