法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2015-03-11
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01Q3/00 授权公告日:20110720 终止日期:20140106 申请日:20110106
专利权的终止
2011-07-20
授权
授权
机译: 用于形成基于PZT的铁电薄膜的组合物,其制造方法以及通过使用用于形成基于PZT的铁电薄膜的组合物来形成基于PZT的铁电薄膜的方法
机译: 用于形成基于铋的铁电薄膜和铁电薄膜的涂膜溶液,这些涂膜是用上述的涂膜溶液制成的铁电电容器和铁电存储器,以及其生产过程
机译: 用于形成基于PZT的铁电薄膜的组合物的制造方法以及使用该组合物的基于PZT的铁电薄膜的形成方法