公开/公告号CN201666885U
专利类型实用新型
公开/公告日2010-12-08
原文格式PDF
申请/专利权人 纳优科技(北京)有限公司;
申请/专利号CN201020046754.8
申请日2010-01-08
分类号
代理机构北京尚诚知识产权代理有限公司;
代理人鲁兵
地址 100123 北京市朝阳区朝阳路67号院8#楼1单元503室
入库时间 2022-08-21 23:14:33
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-02-07
专利权有效期届满 IPC(主分类):G01N23/223 授权公告日:20101208 申请日:20100108
专利权的终止
2010-12-08
授权
授权
机译: 用于溅射工艺的靶装置包括圆柱形支撑元件和由靶材料制成的空心圆柱形靶
机译: 在平板玻璃或塑料薄膜上生产耐热层或防晒层时用作溅射靶的靶装置,包括管状支撑元件和由靶材料制成的空心圆柱形靶
机译: 用于靶衬管的磁体装置,包括该靶衬管的靶衬管,圆柱形靶组件和溅射系统