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用于纳米薄膜表面测量的变入射角度光谱椭偏成像装置

摘要

本实用新型涉及一种用于纳米薄膜表面测量的变入射角度光谱椭偏成像装置,包括单色光发生装置、准直透镜、线性起偏器依次共轴安装在入射旋转臂上,线性检偏器、成像物镜共轴安装在出射旋转臂上;图像传感器安装在出射旋转臂上,和由驱动控制箱,计算机和图像采集卡组成图像处理及系统控制部分;计算机发出指令给电机控制卡,该电机控制卡将此信号传递给电机驱动器后带动驱动器进行旋转,再将器件的运动状态反馈回驱动控制箱中的电机控制卡中,并通过驱动控制箱与电子计算机之间的通讯告知电子计算机当前运动器件的运动状态;图像传感器与监视器和图像采集卡电连接。通过入射角度扫描和波长扫描,同时得到样品视场范围内各点的光谱椭偏参数。

著录项

  • 公开/公告号CN201000428Y

    专利类型

  • 公开/公告日2008-01-02

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院力学研究所;

    申请/专利号CN200720103324.3

  • 发明设计人 靳刚;孟永宏;

    申请日2007-01-24

  • 分类号

  • 代理机构北京泛华伟业知识产权代理有限公司;

  • 代理人高存秀

  • 地址 100080 北京市海淀区北四环西路15号

  • 入库时间 2022-08-21 22:56:46

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2012-03-28

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G01N21/21 授权公告日:20080102 终止日期:20110124 申请日:20070124

    专利权的终止

  • 2008-01-02

    授权

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