公开/公告号CN200959050Y
专利类型
公开/公告日2007-10-10
原文格式PDF
申请/专利权人 中国科学院上海光学精密机械研究所;
申请/专利号CN200620042599.6
申请日2006-06-09
分类号
代理机构上海新天专利代理有限公司;
代理人张泽纯
地址 201800 上海市800-211邮政信箱
入库时间 2022-08-21 22:55:33
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2010-09-22
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G02B27/62 授权公告日:20071010 申请日:20060609
专利权的终止
2007-10-10
授权
授权
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机译: 用于确定光学设备的光学系统的光学系统的光学系统的光学系统,该光学系统用于确定光学系统的征象的一个像平面的偏差的偏差,该光学装置用于读取和识别系统以及通过该系统注册的信息
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