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公开/公告号CN104213400B
专利类型发明专利
公开/公告日2016-04-13
原文格式PDF
申请/专利权人 浙江理工大学;
申请/专利号CN201410412286.4
发明设计人 杨雷;蒋慧;沈一峰;戚栋明;
申请日2014-08-20
分类号D06M11/79(20060101);D06M101/32(20060101);
代理机构33224 杭州天勤知识产权代理有限公司;
代理人胡红娟
地址 310018 浙江省杭州市下沙高教园区2号大街5号
入库时间 2022-08-23 09:38:28
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2016-04-13
授权
2015-01-07
实质审查的生效 IPC(主分类):D06M 11/79 申请日:20140820
实质审查的生效
2014-12-17
公开
机译: 用于形成二氧化硅基涂层的涂布液,涂布液的制备方法以及从涂布液中获得的二氧化硅绝缘膜
机译: 制备奶酪的涂层制剂的方法,一种可用的涂层制剂和在这种制备方法中应用的奶酪的涂层方法。
机译: 用于通孔填充和光刻应用的减反射涂层及其制备方法
机译:在玻璃基板上的多层涂层中嵌入锌的二氧化硅纳米粒子层可实现宽带减反射和高透明度
机译:接近中性色的介孔双层减反射涂层的制备及其在晶体硅太阳能电池组件中的应用
机译:带涂层的亚微米光栅,用于太阳能应用中的宽带减反射
机译:通过催化化学气相沉积获得的高耐湿性SiN / sub x /膜及其在晶体硅太阳能电池的钝化和减反射涂层中的应用
机译:光致降解光伏级硅中光诱导降解的研究以及用于硅太阳能电池的多孔硅减反射涂层的开发
机译:调整亚波长二氧化硅纳米球宽带减反射涂层的峰值位置
机译:具有FeSi2层的减反射涂层:在光谱选择性红外发射器中的应用
机译:脉冲持续时间对熔融石英基板上多孔二氧化硅减反射涂层1064nm激光损伤阈值的依赖性