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公开/公告号CN2828063Y
专利类型
公开/公告日2006-10-18
原文格式PDF
申请/专利权人 陈强;
申请/专利号CN200520057200.7
发明设计人 陈强;
申请日2005-04-21
分类号
代理机构
代理人
地址 526020 广东省肇庆市厂排街基围头村裕华针织厂侧端州区长伟磁材厂转
入库时间 2022-08-21 22:52:05
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2009-06-17
专利权的终止(未缴年费专利权终止)
2006-10-18
授权
机译: 一种用于在两个皮带上连续气相沉积液态或油脂状物质层的装置,但不包括具有金属层的真空气相沉积
机译: 具有真空室,蒸发室和蒸发室的真空气相沉积设备
机译: 用于在例如液晶显示器和太阳能电池的制造中用于薄膜形成的等离子体化学气相沉积设备具有可移除地位于反应室中的两个电极之间的等离子体支撑体
机译:使用低真空气相沉积(VPD)系统的光电子设备金属沉积
机译:«喷射气相沉积»,一种具有卓越性能的新型真空镀膜技术
机译:“喷射气相沉积”一种具有优异性特性的新型真空涂料技术
机译:具有衬底偏置的超声等离子体喷射化学气相沉积系统中的立方氮化硼膜沉积和过程诊断。
机译:谷氨酸和焦谷氨酸的低真空沉积:一种沉积氨基酸以外的有机物质的简便方法
机译:用于构建实验室薄膜沉积浸涂设备的简单且廉价的程序用于在实验室中构建用于薄膜沉积物的浸涂设备的廉价且简单的程序
机译:自动化半导体真空化学气相沉积设备