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公开/公告号CN2788123Y
专利类型
公开/公告日2006-06-14
原文格式PDF
申请/专利权人 闫宏;
申请/专利号CN200520001491.8
发明设计人 闫宏;
申请日2005-01-26
分类号G01B11/06(20060101);
代理机构
代理人
地址 100081 北京市北京理工大学25楼99单元10号
入库时间 2022-08-21 22:50:57
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2009-04-08
专利权的终止(未缴年费专利权终止)
2006-06-14
授权
机译: 涂层产生层厚度变化或折射系数变化而产生的矫正作用的镀膜光学元件
机译: 精密厚度的光学镀膜系统及其操作方法
机译:光学薄膜厚度双光路监控系统的研制
机译:宽带光学监测技术研究厚度误差累积在光学镀膜生产中的作用
机译:真空蒸发镀膜厚度的偏光校正光学测量
机译:光学镀膜的偏振像差。
机译:基于双光栅的自准直光学仪器焦距测量方案研究
机译:真空镀膜光学厚度再现性的计算方法
机译:基于原子层沉积的高功率光学镀膜和激光诱导损伤的特征。