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公开/公告号CN2412019Y
专利类型
公开/公告日2000-12-27
原文格式PDF
申请/专利权人 中国科学院沈阳科学仪器研制中心;
申请/专利号CN99250781.2
发明设计人 李求恕;冯彬;吕祺;孙荣昌;曾志群;潘福全;戚晖;金振奎;阎佐健;
申请日1999-12-24
分类号C23C14/24;
代理机构中国科学院沈阳专利事务所;
代理人朱光林
地址 110003 辽宁省沈阳市和平区三好街76号
入库时间 2022-08-21 22:41:18
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2004-01-28
专利权的终止未缴年费专利权终止
2000-12-27
授权
机译: 等离子体化学汽相淀积装置及采用该装置的化学汽相淀积方法及装置内部的清洗方法
机译: 用于电化学汽相淀积的原始材料汽化器,电化学汽相淀积装置和使用该装置的固态电解膜形成方法
机译: 高速旋转汽相淀积装置及高速旋转汽相淀积薄膜形成方法
机译:用于铁电场效应装置应用的脉冲激光沉积过程的脉冲激光沉积过程
机译:Hamamatsu Huenix高性能空间光控制装置开发高功率小脉冲激光快速激光加工
机译:4H-SIC电源装置通过脉冲激光退火和快速热退火的欧姆接触
机译:CoO_x在CaTaO_2N薄膜上的光淀积以及晶面取向的控制及其对光电极特性的影响
机译:通过脉冲激光沉积和化学气相沉积合成新型材料:第一部分:氮化碳薄膜的能量沉积和稳定性。第二部分:一维材料和装置的催化生长。
机译:酸淀积聚苯胺薄膜传感器检测H2S和SO2的气体传感性能研究
机译:粒子流特性对脉冲激光烧蚀淀积类金刚石薄膜的影响
机译:用于在线和管上脉冲激光沉积材料的装置和方法