法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2002-10-16
专利权的终止未缴年费专利权终止
专利权的终止未缴年费专利权终止
2000-06-21
授权
授权
机译: 用于产生极端UV(EUV)辐射/软X射线辐射的设备具有电子束源,该电子束源的布置方式使电子束被激发以释放等离子体,从而产生EUV和/或X射线辐射的一部分
机译: 在日光化学反应器中连续进行日光化学反应的方法,包括在进行反应的辐射不足时,将蓄能器排放到接收器中以维持反应
机译: 聚焦线性源辐射的系统,尤其是光化学反应器和激光的辐射源