法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2009-03-25
专利权的终止(专利权有效期届满)
专利权的终止(专利权有效期届满)
2000-01-12
授权
授权
机译: 从熔体中去除杂质包括:向坩埚提供有色金属或半导体材料的熔体;定向凝固该熔体以形成固化的块;以及从坩埚中去除一部分残留的熔体
机译: 用于熔化固体形式的金属合金的装置包括冷熔坩埚,石墨或陶瓷坩埚以及用于将冷熔坩埚中的熔体转移到石墨或陶瓷坩埚中的单元
机译: 用于生产玻璃熔体和/或玻璃陶瓷熔体的装置包括用于容纳熔体的坩埚,该坩埚在其内侧部分地分段形成有具有铱的包层。