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双端磁控溅射离子镀膜机

摘要

本实用新型涉及的是一种双端磁控溅射离子镀膜机,由真空室和传输机构组成。其中真空室包括前、后锁室、溅射区、隔离区和压差室,真空室内设置有加热装置和溅射靶、偏压装置,在前锁室上开有入口,后锁室上开有出口,在真空室壁上设有穿越口。本实用新型具有长度尺寸小,从而投资小,生产节拍快,具有多种功能,既可以镀热反射玻璃,也可以镀低辐射玻璃,还可以在瓷砖、钢板上镀膜以及在有一定曲面的板上镀膜,且膜的附着力,膜厚的均匀性都明显改善,从而大大提高产品的质量。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2003-06-04

    专利权的终止未缴年费专利权终止

    专利权的终止未缴年费专利权终止

  • 1994-12-28

    授权

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