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使用包含低质量种类和高质量种类二者的离子源的导航和样本处理

摘要

一种用于使用FIB系统对衬底进行成像和铣削的改进方法和设备。本发明的优选实施例使用由相同射束光学器件聚焦于相同焦点的轻和重离子的混合物,来在轻离子穿透至样本中更深处以允许生成表面下特征的图像时同时铣削样本表面(主要利用重离子)。在其他使用当中,本发明的优选实施例提供了可用于诸如背面电路编辑之类的各种电路编辑应用的导航和样本处理的改进方法。

著录项

  • 公开/公告号CN103081054B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2016-04-13

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 FEI公司;

    申请/专利号CN201180041584.1

  • 发明设计人 C.吕埃;

    申请日2011-08-31

  • 分类号

  • 代理机构中国专利代理(香港)有限公司;

  • 代理人殷瑞剑

  • 地址 美国俄勒冈州

  • 入库时间 2022-08-23 09:38:01

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-04-13

    授权

    授权

  • 2013-06-05

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01J37/20 申请日:20110831

    实质审查的生效

  • 2013-05-01

    公开

    公开

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