首页> 中国专利> 一种电光晶体材料半波电压和光学均匀性的测量装置和测量方法

一种电光晶体材料半波电压和光学均匀性的测量装置和测量方法

摘要

一种电光晶体材料半波电压和光学均匀性的测量装置和测量方法,具体涉及电光晶体的静态消光比、动态消光比和半波电压的测量。测量装置包括氦氖激光器、起偏器、分光板、全反镜、检偏器、光电二极管、检流计以及直流高压电源,分光板与入射光夹角45°或135°。测量方法是将上下表面涂银电极的被测晶体放置在分光板之后,打开激光器,晶体上未加电压时调整检偏器和起偏器正交或平行,探测到的光强信号分别为I1和I2,I2/I1为静态消光比。加大电压,检流计指示的光强信号至最大时,晶体上所加电压为半波电压,这时的光强信号为I3,I3/I1为动态消光比。本发明可用来测量有旋光性电光晶体材料的静态消光比、动态消光比和半波电压。

著录项

  • 公开/公告号CN1177214C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2004-11-24

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 山东大学;

    申请/专利号CN02135255.0

  • 发明设计人 尹鑫;王继扬;张少军;蒋民华;

    申请日2002-07-12

  • 分类号G01N21/21;G01J4/00;

  • 代理机构37200 济南三达专利事务所;

  • 代理人孙君

  • 地址 250100 山东省济南市山大南路27号

  • 入库时间 2022-08-23 08:57:27

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2006-09-13

    专利权的终止未缴年费专利权终止

    专利权的终止未缴年费专利权终止

  • 2004-11-24

    授权

    授权

  • 2003-04-02

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2003-01-08

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号