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稀土钪钨基高电流密度电子发射体材料及其制备方法

摘要

一种稀土钪钨基高电流密度电子发射体材料及其制备方法,属于稀土难熔金属阴极材料技术领域。本发明的材料的特征在于:它含有氧化钪、铼和钨,其中氧化钪占该电子发射体材料重量百分比为1-10%,铼占1-5%,其余为钨。本发明提供的制备方法特征在于,它包括以下步骤:在蓝钨中,以硝酸钪水溶液形式加入1-10%的氧化钪,同时以铼酸铵水溶液的形式加入1-5%的铼,在氢气气氛中,500-650℃下还原0.5-1.5小时,800-1000℃下还原保温1-3小时,得到掺杂氧化钪的钨粉;将上述钨粉采用常规的粉末冶金方法制备烧结体;浸渍铝酸盐,超声波清洗和退火后,制成电子发射体材料。本发明的电子发射体材料发射性能均匀,提高了耐高温、抗离子轰击能力,而且本发明的制备方法工艺重复性好。

著录项

  • 公开/公告号CN1176480C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2004-11-17

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 北京工业大学;

    申请/专利号CN02131345.8

  • 发明设计人 王金淑;周美玲;王亦曼;陶斯武;

    申请日2002-09-29

  • 分类号H01J1/14;H01J1/30;C22C27/04;

  • 代理机构11203 北京思海天达知识产权代理有限公司;

  • 代理人张慧

  • 地址 100022 北京市朝阳区平乐园100号

  • 入库时间 2022-08-23 08:57:24

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2006-11-29

    专利权的终止未缴年费专利权终止

    专利权的终止未缴年费专利权终止

  • 2004-11-17

    授权

    授权

  • 2003-03-12

    公开

    公开

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