法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2007-01-24
专利权的终止未缴年费专利权终止
专利权的终止未缴年费专利权终止
2005-05-25
授权
授权
2003-08-27
实质审查的生效
实质审查的生效
2003-06-11
公开
公开
机译: 半导体激光器件,用于其的像散校正板以及布置像散校正板的方法
机译: 半导体激光器件,用于其的像散校正板以及布置像散校正板的方法
机译: 掩模图案校正方法,掩模图案校正程序,掩模图案校正设备,曝光条件设置方法,曝光条件设置程序,曝光条件设置设备,半导体器件制造方法,半导体器件制造程序和半导体器件制造设备