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多晶硅融化掺氮直拉生长微氮硅单晶的方法

摘要

本发明的多晶硅融化掺氮直拉生长微氮硅单晶的方法包括多晶硅的融化,种籽晶,放肩、生长、收尾、冷却全过程,其特征是在多晶硅融化时,用高纯氮气作为保护气,高纯氮气的压力为5~200Torr,流量为1~200 l/min,氮气通入时间1~1000分钟,在多晶硅融化后,转化为氩气保护,直至硅晶体生长完成。本发明方法克服了普通氮保护气生长大直径硅单晶的氮元素浓度过高,浓度不易控制的困难,同时能有效降低大直径硅单晶的生产成本,特别适用于8~12英寸以上微氮硅单晶的制备。

著录项

  • 公开/公告号CN1190527C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2005-02-23

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 浙江大学;

    申请/专利号CN02151126.8

  • 发明设计人 李立本;杨德仁;阙端麟;

    申请日2002-12-02

  • 分类号C30B27/00;

  • 代理机构杭州求是专利事务所有限公司;

  • 代理人韩介梅

  • 地址 310027 浙江省杭州市西湖区玉古路20号

  • 入库时间 2022-08-23 08:57:23

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2009-08-12

    专利实施许可合同的备案 合同备案号:2009330001257 让与人:浙江大学 受让人:宁波立立半导体有限公司 发明名称:多晶硅融化掺氮直拉生长微氮硅单晶的方法 授权公告日:20050223 许可种类:独占许可 备案日期:2009.6.2 合同履行期限:2008.12.10至2013.12.9合同变更 申请日:20021202

    专利实施许可合同的备案

  • 2005-02-23

    授权

    授权

  • 2003-08-27

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2003-06-11

    公开

    公开

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