法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2016-08-17
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C04B 35/495 授权公告日:20050504 终止日期:20150704 申请日:20030704
专利权的终止
2013-11-13
专利权的转移 IPC(主分类):C04B 35/495 变更前: 变更后: 登记生效日:20131024 申请日:20030704
专利申请权、专利权的转移
2005-05-04
授权
授权
2004-05-19
实质审查的生效
实质审查的生效
2004-03-10
公开
公开
机译: BATI03基高介电常数陶瓷介质的制备方法
机译: 在陶瓷方法上以降低的73烧结温度形成高介电常数的陶瓷二烯的制备方法。电子本体的制造过程中,形成了一种陶瓷二烯容器,并形成了通过这些方法获得的陶瓷二烯或电子本体。
机译: 产生310NM作为瞬时紊乱的激光发生器的稳定高功率激光的激光辐照系统