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基于荧光发射抑制机理的随机定位超分辨显微方法及装置

摘要

本发明公开了一种基于荧光发射抑制机理的随机定位超分辨显微方法及装置,该方法包括:将同轴共路的激发光和抑制光同时聚焦在样品上,样品上具有受激荧光发射特性的位置随机出射荧光,收集荧光信号,生成稀疏荧光分布图像,对衍射斑进行单分子定位,将不同的荧光分子定位图像经图像合成后即得。该装置包括:第一激光光源、第二激光光源、反射镜、第一二色镜、科勒镜组、第二二色镜、显微物镜、样品、滤光片、场镜、目镜、宽场感光元件以及计算机。本发明的分辨率精细度高,可以获取横向20nm的超分辨图像;结构简单,成本低廉;减小了强激光或荧光漂白对于样品的非可逆损害,增强了样品的重复利用率;功能扩展性强。

著录项

  • 公开/公告号CN103592278B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2016-01-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN201310593816.5

  • 发明设计人 李旸晖;金尚忠;袁琨;金杯洲;

    申请日2013-11-21

  • 分类号G01N21/64(20060101);

  • 代理机构33224 杭州天勤知识产权代理有限公司;

  • 代理人胡红娟

  • 地址 310018 浙江省杭州市下沙高教园区学源街258号

  • 入库时间 2022-08-23 09:34:42

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-01-20

    授权

    授权

  • 2014-03-19

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01N21/64 申请日:20131121

    实质审查的生效

  • 2014-02-19

    公开

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