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结晶性膜、器件、以及结晶性膜或器件的制造方法

摘要

本发明提供在从外延生长用衬底分离后消除了晶轴角度的偏差的结晶性膜、通过设有该结晶性膜而改善了特性的各种器件、以及结晶性膜和器件的制造方法;在作为外延生长用衬底的单晶衬底的面上通过外延生长形成厚度为300μm以上10mm以下的结晶性膜,接着,将结晶性膜从单晶衬底分离,对于分离后产生翘曲的结晶性膜的厚度方向的相对位置,在将翘曲成凹状侧的面假设为0%、翘曲成凸状侧的面假设为100%时,将脉冲激光汇聚在厚度方向的3%以上且小于50%的范围内的结晶性膜内部并进行扫描,从而利用基于脉冲激光的多光子吸收来形成改性区域图形,由此减少或消除结晶性膜的翘曲量,从而减少或消除晶轴角度的偏差。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-03-01

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L21/20 授权公告日:20160120 终止日期:20180304 申请日:20110304

    专利权的终止

  • 2016-01-20

    授权

    授权

  • 2012-12-26

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/20 申请日:20110304

    实质审查的生效

  • 2012-10-31

    公开

    公开

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