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后成形的连续相/分散相光学体及其制备方法

摘要

公开了由含连续相和分散相的光学体制得的漫反射制品以及这种制品的制造方法。还公开了特别适合后成形操作的未充分拉伸的连续相/分散相光学体。本发明制品、方法和光学体便于光学体进行后成形,同时在光学体制成的制品中保持所需的漫反射率。

著录项

  • 公开/公告号CN1178076C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2004-12-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 3M创新有限公司;

    申请/专利号CN99810254.7

  • 申请日1999-05-25

  • 分类号G02B5/30;G02F1/1335;G02B5/08;

  • 代理机构上海专利商标事务所;

  • 代理人朱黎明

  • 地址 美国明尼苏达州

  • 入库时间 2022-08-23 08:57:19

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2009-08-05

    专利权的终止(未缴年费专利权终止)

    专利权的终止(未缴年费专利权终止)

  • 2004-12-01

    授权

    授权

  • 2001-10-10

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2001-10-03

    公开

    公开

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