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一种惰性气体保护下的HEM晶体生长方法

摘要

本发明公开了一种惰性气体保护下的HEM晶体生长方法,它包含以下步骤:(1)、将晶体放入晶体生长炉内;(2)、密封晶体生长炉内并进行真空处理直至炉内真空度达到5-10毫托;(3)、往晶体生长炉中缓慢充入HE和AR的体积比为1:1.5-3的HE-AR惰性混合气体排杂;(4)、采用加热器对晶体生长炉开始加热,进行HEM晶体生长,炉内温度始终不低于2000℃,在晶体生长过程中,持续充入HE-AR惰性混合气体直至晶体生长完成。本发明的有益效果是:利用HE-AR惰性混合气体实现了HEM晶体生长,晶体的生长效果好,规避了国际上氦气供应的问题,同时节约了生产成本,减少了采购风险。

著录项

  • 公开/公告号CN103173855B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2016-01-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 贵阳嘉瑜光电科技咨询中心;

    申请/专利号CN201310080414.5

  • 发明设计人 季泳;张龚磊;

    申请日2013-03-12

  • 分类号

  • 代理机构北京路浩知识产权代理有限公司;

  • 代理人谷庆红

  • 地址 550004 贵州省贵阳市高新开发区金阳知识产业园253室

  • 入库时间 2022-08-23 09:33:30

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-01-06

    授权

    授权

  • 2013-07-24

    实质审查的生效 IPC(主分类):C30B27/00 申请日:20130312

    实质审查的生效

  • 2013-06-26

    公开

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