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一种降低自由基本体聚合树脂中残留单体的方法

摘要

本发明公开了一种降低自由基本体聚合树脂中残留单体的方法,其特征在于:聚合体系中含有至少一种裂解型光引发剂,且在自由基本体聚合结束,使所得树脂在经造粒或粉碎后通过波长范围为200~400nm紫外光的连续照射。通过本发明方法可以使自由基本体聚合树脂中的残留单体的含量低于1wt%,可比现有技术降低50%以上,有效避免了残留单体对采用自由基本体聚合所得树脂产生的不利影响,使所得树脂味道小,迁移少,保证了在涂料、油墨和粘合剂领域的应用性能要求;而且,本发明方法操作简单,易于实现连续化生产,适合工业化生产要求,具有实用价值。

著录项

  • 公开/公告号CN103467629B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2015-12-23

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海新世纪齿科材料有限公司;

    申请/专利号CN201310472802.8

  • 发明设计人 李纲;

    申请日2013-10-11

  • 分类号C08F2/48(20060101);C08F2/02(20060101);C08F220/14(20060101);C08F220/18(20060101);C08J3/28(20060101);

  • 代理机构31258 上海海颂知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人何葆芳

  • 地址 201816 上海市嘉定区华亭镇唐行村461号

  • 入库时间 2022-08-23 09:33:18

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-06-30

    专利权的转移 IPC(主分类):C08F2/48 登记生效日:20170613 变更前: 变更后: 申请日:20131011

    专利申请权、专利权的转移

  • 2015-12-23

    授权

    授权

  • 2014-01-22

    实质审查的生效 IPC(主分类):C08F2/48 申请日:20131011

    实质审查的生效

  • 2013-12-25

    公开

    公开

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