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近场光探头和近场光学显微镜及光记录/再生装置

摘要

提供光利用效率高,能够进行高速扫描,包含在探测光中的背景光少的近场光探头和它的制造方法。在基片(11)上形成有圆锥体或多锥体或平面椭圆体或三角形形状的金属散射体(12)在这个散射体周边形成膜厚和散射体高度相同的金属或电介质或半导体等的膜(13)。

著录项

  • 公开/公告号CN1202431C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2005-05-18

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 株式会社日立制作所;

    申请/专利号CN00128675.7

  • 申请日2000-09-20

  • 分类号G02B26/10;G02B5/02;G02B1/11;G02B21/00;G11B7/00;

  • 代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所;

  • 代理人季向冈

  • 地址 日本东京

  • 入库时间 2022-08-23 08:57:20

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-11-09

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G02B 26/10 授权公告日:20050518 终止日期:20150920 申请日:20000920

    专利权的终止

  • 2005-05-18

    授权

    授权

  • 2002-07-24

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2001-10-31

    公开

    公开

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