公开/公告号CN1202431C
专利类型发明授权
公开/公告日2005-05-18
原文格式PDF
申请/专利权人 株式会社日立制作所;
申请/专利号CN00128675.7
申请日2000-09-20
分类号G02B26/10;G02B5/02;G02B1/11;G02B21/00;G11B7/00;
代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所;
代理人季向冈
地址 日本东京
入库时间 2022-08-23 08:57:20
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2016-11-09
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G02B 26/10 授权公告日:20050518 终止日期:20150920 申请日:20000920
专利权的终止
2005-05-18
授权
授权
2002-07-24
实质审查的生效
实质审查的生效
2001-10-31
公开
公开
机译: 近场光学探头的结构,将近场光学探头微开的光入射定位的方法,利用近场光学探头扫描近场光学显微镜和近场光学记录器
机译: 近场光探针,近场光探针,近场光学显微镜,近场光精细处理装置和近场光记录回放装置的制造方法
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