基于模块化的保偏近场扫描光学显微镜近场探测及刻写

摘要

美国、日本、德国等发达国家对纳米探测、纳米光刻技术十分重视，纷纷投入了大量的人力物力进行研究开发，已经取得了比较好的研究成果。而我们国家的近场扫描光学显微镜的研制还处于起步阶段，目前仪器主要依赖进口，我们在Topometrix的产品的基础上，研制出了自己特色的“模块化的保偏近场扫描光学显微镜”，我们制成的横置的实验平台，它的光学部分采用水平放置的光学系统，避免使用折射、反射元件避免光偏振态变化，同时采用短光纤探针避免由光纤传输引起的偏振态变化。这种保偏型的SNOM可广泛应用于各向异性样品的表征、局域光学偏振态探测和偏振光刻写等研究领域。 本文结合国家自然科学基金项目——“偶氮聚合物光致异构转化的近场观测和定量分析(No.60377004)”的主要研究内容，实现了光纤探针的小批量生产，完成了现有的近场扫描光学显微镜的改造，研制出了模块化的保偏近场扫描光学显微镜，并使之适应定量测量局域的光学各向异性，文章中给出了定量测量局域光学各向异性理论分析计算以及实验方法；为研究掺杂颗粒对聚合物顺反异构化影响，对添加不同浓度的Ag纳米粒子偶氮聚合物进行了近场分析；利用光纤探针实现了在纳米尺度上高分辨率刻画，为将偏振光调制和解调技术与光纤探针技术结合，实现在纳米尺度上高分辨率刻画、光探测和定量测量局域光学各向异性奠定了良好基础。

目录

文摘

英文文摘

第一章绪论

第二章近场扫描光学显微镜成像原理及仪器简介

第三章SNOM探针—样品间距控制及扫描探针分析制作

第四章基于模块化保偏近场扫描光学显微镜的近场探测

第五章基于模块化的保偏近场扫描光学显微镜的近场刻写

第六章结论与展望

附录

参考文献

致谢

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