法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-09-17
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L21/285 授权公告日:20151209 终止日期:20180926 申请日:20120926
专利权的终止
2015-12-09
授权
授权
2013-10-30
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/285 申请日:20120926
实质审查的生效
2013-01-23
公开
公开
机译: 采用高k栅极电介质实现分栅晶体管技术
机译: 外延石墨烯表面制备用于电介质原子层沉积
机译: 制备用于电介质原子层沉积的外延石墨烯表面