一种镁合金表面水热沉积法制备的缓蚀性阴离子插层水滑石薄膜

摘要

本发明提出了一种缓蚀性阴离子插层水滑石薄膜的制备方法，其解决了现有技术中制备工艺复杂、水滑石薄膜涂层附着性能差的问题。该制备方法包括以下步骤：a）对镁合金样品进行预处理的步骤；b）配制层状双羟基复合金属氧化物前驱体（LDHs溶胶）的步骤；c）将步骤a）预处理得到的镁合金样品和步骤b）的LDHs溶胶置于水热反应釜中进行水热沉积的步骤。本发明制备得到的薄膜层致密、光滑、厚度均匀，与基体结合力好，由于水滑石薄膜具有缓蚀性的阴离子插层，可在边界扩散层形成缓蚀区域，具有较高的耐腐蚀性能，经检测：本发明水滑石薄膜在3.5%NaCl溶液中浸泡12h，表面无点蚀坑。