法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2015-12-16
授权
授权
2013-03-20
实质审查的生效 IPC(主分类):G06F17/50 申请日:20121114
实质审查的生效
2013-02-13
公开
公开
机译: 在设计规则和设计的风险评估方面纳入工艺变化轮廓,以提高可制造性的可制造性
机译: 片上系统集成电路的复杂设计验证方法,涉及将修改后的向量反馈到EDA环境以修改IC设计数据,以纠正设计错误
机译: 通过插入双重形成的电子产品的外部壳体和电子产品的外部壳体的制造方法,以防止通过将设计放置在内部层上而擦除设计