在扫描曝光光路中精确调整干涉条纹方向的方法

摘要

一种在扫描曝光光路中精确调整干涉条纹方向的方法，涉及光谱技术领域，要解决的技术问题是提供一种高精度调整干涉条纹方向的方法，解决技术问题的技术方案为：将基准光栅置于二维运动工作台上；配备一套扫描曝光光路；调节反射镜使曝光光束均满足Littrow条件；沿扫描方向移动工作台，根据CCD上观察到的干涉图样变化情况调节基准光栅方向；调节平面反射镜，使两光束在位置PSD和角度PSD上重合。采用本发明所述的方法能精确调节干涉条纹方向，为扫描干涉场曝光系统在扫描过程中的对比度提供了保证，对扫描曝光全息光栅的制作具有较大的实际意义。