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具有钝化处理的宽禁带氧化物半导体薄膜层的紫外探测器及制备方法

摘要

具有钝化处理的宽禁带氧化物半导体薄膜层的紫外探测器及制备方法,属于半导体光电器件技术领域。探测器依次由衬底、经(NH

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-05-21

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L31/101 授权公告日:20151104 终止日期:20180530 申请日:20130530

    专利权的终止

  • 2015-11-04

    授权

    授权

  • 2013-09-25

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L31/101 申请日:20130530

    实质审查的生效

  • 2013-08-28

    公开

    公开

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