法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-05-21
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L31/101 授权公告日:20151104 终止日期:20180530 申请日:20130530
专利权的终止
2015-11-04
授权
授权
2013-09-25
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L31/101 申请日:20130530
实质审查的生效
2013-08-28
公开
公开
机译: 用于光电仪器的具有薄金属膜层和具有高输出操作的缓冲层的前电极及其制备方法
机译: 具有氧化铝保护膜的氧化物半导体薄膜晶体管,该氧化物半导体薄膜晶体管使用通过铝膜层压的氧化铝的连续沉积工艺制成
机译: 互补金属氧化物半导体/双极互补金属氧化物半导体-相机芯片集成电路具有单个单独的层作为钝化系统的最后一层,将集成电路密封