首页> 中国专利> 位置测量方法、位置控制方法、曝光方法及曝光装置、及元件制造方法

位置测量方法、位置控制方法、曝光方法及曝光装置、及元件制造方法

摘要

能管理位置测量用标记未存在的移动体的位置。将以可拆装方式搭载既定形状的板件(50)的移动体(WST)的位置,以供界定其移动座标系统的测量装置(18等)来测量,并以对准系统(ALG)检测板件(50)的一部分,根据其检测结果与对应的该测量装置的测量结果,来取得板件(50)外周边缘的位置资讯。据此,即使于该移动体(WST)上位置测量用的标记(基准标记)等未存在,仍可根据板件外周边缘的位置资讯,在以该测量装置所界定的移动座标系统上管理板件的位置,亦即移动体的位置。

著录项

  • 公开/公告号CN103149802B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2015-10-14

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 尼康股份有限公司;

    申请/专利号CN201310020294.X

  • 发明设计人 安田雅彦;杉原太郎;

    申请日2005-11-18

  • 分类号G03F7/20(20060101);G01B11/00(20060101);

  • 代理机构11256 北京市金杜律师事务所;

  • 代理人陈伟

  • 地址 日本东京都千代田区丸之内3丁目2番3号

  • 入库时间 2022-08-23 09:30:02

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2015-10-14

    授权

    授权

  • 2013-07-17

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/20 申请日:20051118

    实质审查的生效

  • 2013-06-12

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号