公开/公告号CN103186040B
专利类型发明专利
公开/公告日2015-08-19
原文格式PDF
申请/专利权人 罗门哈斯电子材料有限公司;
申请/专利号CN201210570028.X
申请日2012-09-10
分类号G03F7/004(20060101);G03F7/09(20060101);G03F7/16(20060101);
代理机构31100 上海专利商标事务所有限公司;
代理人陈哲锋
地址 美国马萨诸塞州
入库时间 2022-08-23 09:28:57
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2015-08-19
授权
授权
2013-07-31
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/004 申请日:20120910
实质审查的生效
2013-07-03
公开
公开
机译: 衰减射线敏感或辐射敏感的树脂组合物,抗蚀膜,图案形成方法,带有抗蚀膜的掩膜空白,制造光掩模的方法以及制造电子设备的方法
机译: 有源光敏或辐射敏感树脂组合物,抗蚀膜,图案形成方法,具有抗蚀膜的掩膜坯,制造光掩模的方法以及制造电子设备的方法
机译: 有源光敏或辐射敏感树脂组合物,抗蚀膜,图案形成方法,具有抗蚀膜的掩膜坯,制造光掩模的方法以及制造电子设备的方法