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提高PowerMOS器件UIS性能的方法

摘要

本发明公开了一种提高PowerMOS器件UIS性能的方法,包括:在现有功率MOS器件的制备工艺基础上,通过两次源极注入,形成N+N-源极,将MOS寄生N+PN管改为N+N-PN管。本发明通过在原有功率MOS器件的工艺基础上,不增加额外的光罩,仅将原有Source注入由一次改为两次,便可得到UIS性能更加优越的MOS器件。

著录项

  • 公开/公告号CN103094079B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2015-08-19

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海华虹宏力半导体制造有限公司;

    申请/专利号CN201110348539.2

  • 发明设计人 罗清威;吴晶;左燕丽;

    申请日2011-11-07

  • 分类号

  • 代理机构上海浦一知识产权代理有限公司;

  • 代理人高月红

  • 地址 201203 上海市浦东新区张江高科技园区祖冲之路1399号

  • 入库时间 2022-08-23 09:28:33

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2015-08-19

    授权

    授权

  • 2014-02-05

    专利申请权的转移 IPC(主分类):H01L 21/265 变更前: 变更后: 登记生效日:20140108 申请日:20111107

    专利申请权、专利权的转移

  • 2013-06-12

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/265 申请日:20111107

    实质审查的生效

  • 2013-05-08

    公开

    公开

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