法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2015-07-29
授权
授权
2013-07-24
实质审查的生效 IPC(主分类):H02K 29/06 申请日:20111224
实质审查的生效
2013-06-26
公开
公开
机译: 提供用于光学接近度校正的初始偏差值的方法以及基于该初始偏差值的具有光学接近度校正的掩模制造方法
机译: 提供用于光学邻近校正的初始偏差值的方法以及基于初始偏差值的具有光学邻近校正的掩膜产生方法
机译: 提供用于光学邻近校正的初始偏差值的方法以及基于初始偏差值的具有光学邻近校正的掩码制造方法