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晶片级透镜阵列的成形方法、成形模、晶片级透镜阵列

摘要

本发明提供一种能够抑制所制造的晶片级透镜阵列的透镜部的位置的离散的成形方法及成形模。一种成形方法,用于形成具有基板部和在该基板部上排列的多个透镜部的晶片级透镜阵列,具有:量取工序,使用具有模面的一对模构件,向由一对模构件中的一模构件的沿着模面的周缘部将模面的整周围住而设置的堤部区分的模面的区域供给作为晶片级透镜阵列的材料的液状的树脂,并使超过用于形成晶片级透镜阵列所需要的量的树脂从由堤部区分的区域流出,由此在区域中量取用于形成晶片级透镜阵列所需要的量的树脂,其中,模面包括呈使透镜部的形状反转而成的形状的透镜转印部;变形工序,将保持于区域中的树脂由一对模构件夹入,使树脂变形为模面的形状;固化工序,使由一对模构件夹入的树脂固化。

著录项

  • 公开/公告号CN102218783B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2015-07-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 富士胶片株式会社;

    申请/专利号CN201110052964.7

  • 发明设计人 榊毅史;渡边清一;

    申请日2011-03-01

  • 分类号B29C33/00(20060101);G02B3/00(20060101);H04N5/225(20060101);B29D11/00(20060101);B29L11/00(20060101);

  • 代理机构11021 中科专利商标代理有限责任公司;

  • 代理人雒运朴

  • 地址 日本国东京都

  • 入库时间 2022-08-23 09:27:22

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-03-01

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):B29C 33/00 授权公告日:20150701 终止日期:20180301 申请日:20110301

    专利权的终止

  • 2015-07-01

    授权

    授权

  • 2015-07-01

    授权

    授权

  • 2013-04-10

    实质审查的生效 IPC(主分类):B29C33/00 申请日:20110301

    实质审查的生效

  • 2013-04-10

    实质审查的生效 IPC(主分类):B29C 33/00 申请日:20110301

    实质审查的生效

  • 2011-10-19

    公开

    公开

  • 2011-10-19

    公开

    公开

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