公开/公告号CN102263032B
专利类型发明专利
公开/公告日2015-07-01
原文格式PDF
申请/专利号CN201110153220.4
申请日2011-05-31
分类号
代理机构北京戈程知识产权代理有限公司;
代理人程伟
地址 英国开曼群岛
入库时间 2022-08-23 09:26:52
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-05-22
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L21/336 授权公告日:20150701 终止日期:20190531 申请日:20110531
专利权的终止
2015-07-01
授权
授权
2015-07-01
授权
授权
2012-01-11
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/336 申请日:20110531
实质审查的生效
2012-01-11
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/336 申请日:20110531
实质审查的生效
2011-11-30
公开
公开
2011-11-30
公开
公开
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机译: 形成包括高k金属栅电极结构的晶体管的方法,该高k金属栅电极结构包括多晶半导体材料和嵌入的应变诱发半导体合金
机译: 由氧化刻蚀工艺制成的空腔中含有嵌入式应变诱发材料的晶体管
机译: 具有NMOS晶体管和PMOS晶体管的半导体器件,其包括掩埋的Si / Ge材料以产生拉伸应变和压缩应变