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对焦位置调整方法、对焦位置调整装置、及激光加工装置

摘要

本发明提供一种可适当地调整在表面存在凹凸结构的基板中设置于凹部的界道的对焦状态的方法。对具有使多个单位遮光区域沿一方向等间隔排列而成的第一遮光图案及与其正交的第二遮光图案的十字状的遮光图案,将以界道的一格点为中心的十字状区域作为投影范围且以如下方式进行投影:使该遮光图案相对于光轴倾斜配置,第一遮光图案的多个单位遮光区域的各自的成像位置成为不同的高度位置,且第二遮光图案在一个高度位置成像。基于使格点与图像中央吻合而对包括投影范围的区域进行摄像而得的摄像图像,特定第一遮光图案的对比度成为最大的位置,基于最大对比度位置与格点位置的距离调整对焦机构的对焦位置,由此使对焦对象区域成为对焦状态。

著录项

  • 公开/公告号CN102896420B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2015-05-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 三星钻石工业股份有限公司;

    申请/专利号CN201210127349.2

  • 发明设计人 栗山规由;时本育往;

    申请日2012-04-26

  • 分类号B23K26/046(20140101);B23K26/03(20060101);

  • 代理机构11287 北京律盟知识产权代理有限责任公司;

  • 代理人沈锦华

  • 地址 日本国大阪府吹田市南金田2-12-12

  • 入库时间 2022-08-23 09:25:34

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2015-05-20

    授权

    授权

  • 2013-03-13

    实质审查的生效 IPC(主分类):B23K 26/04 申请日:20120426

    实质审查的生效

  • 2013-01-30

    公开

    公开

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