首页> 中国专利> 可变电阻元件及其制造方法以及具有该可变电阻元件的非易失性半导体存储装置

可变电阻元件及其制造方法以及具有该可变电阻元件的非易失性半导体存储装置

摘要

本发明提供减少成形电压的元件间偏差并能够降低成形电压的结构的可变电阻元件及其制造方法、以及具有该可变电阻元件的高集成的非易失性半导体存储装置。可变电阻元件(2)构成为在第一电极(15)和第二电极(12)之间夹持电阻变化层(第一金属氧化物膜)(13)以及与第一电极(15)相接的控制层(第二金属氧化物膜)(14)。控制层(14)由功函数小(4.5eV以下)并且具有从电阻变化层抽取氧的能力的金属的氧化膜构成。第一电极由与该金属同样地功函数小的金属构成,并且,为了抑制来自控制层的氧的热扩散,以其氧化物生成自由能大于构成控制层的元素的氧化物生成自由能的材料构成。

著录项

  • 公开/公告号CN102655210B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2015-04-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 夏普株式会社;

    申请/专利号CN201210054750.8

  • 发明设计人 玉井幸夫;

    申请日2012-03-05

  • 分类号

  • 代理机构中国专利代理(香港)有限公司;

  • 代理人闫小龙

  • 地址 日本大阪府大阪市

  • 入库时间 2022-08-23 09:24:42

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2015-04-22

    授权

    授权

  • 2012-10-31

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 45/00 申请日:20120305

    实质审查的生效

  • 2012-09-05

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号