法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2015-02-04
授权
授权
2013-10-16
实质审查的生效 IPC(主分类):C08F 2/46 申请日:20111108
实质审查的生效
2013-09-11
公开
公开
机译: 低介电常数绝缘膜的形成材料,低介电常数绝缘膜形成材料的形成方法,低介电常数绝缘膜,低介电常数绝缘膜的形成方法以及具有低介电常数绝缘膜的半导体装置
机译: 用于TFT-LCD的层间有机介电绝缘膜的光交联树脂组合物,使用其的介电绝缘膜以及使用其的电子设备
机译: 形成低介电常数绝缘膜的方法,以相同方法形成的低介电常数绝缘膜,以及使用该低介电常数绝缘膜的半导体装置