光酸产生剂、其制备方法及包含光酸产生剂的抗蚀剂组合物

摘要

本发明涉及光酸产生剂、其制备方法及包含光酸产生剂的抗蚀剂组合物。本发明提供由下式(1)表示的光酸产生剂、制备所述光酸产生剂的方法，以及包含所述光酸产生剂的抗蚀剂组合物：[化学式1]其中在式(1)中，Y、X、R₁、R₂、n₁、n₂和A⁺具有与本发明详述中相同的定义。所述光酸产生剂在ArF浸液式光刻法时可保持合适的接触角，可减少浸液式光刻法过程中出现的缺陷，在抗蚀剂溶剂中具有优异的溶解性，并且与树脂的相容性很好。此外，所述光酸产生剂可使用工业易得的环氧化合物，通过有效且简单的方法进行制备。