公开/公告号CN1162753C
专利类型发明授权
公开/公告日2004-08-18
原文格式PDF
申请/专利权人 东进瑟弥侃株式会社;
申请/专利号CN00813991.1
申请日2000-08-25
分类号G03F7/039;C08F12/08;
代理机构11105 北京市柳沈律师事务所;
代理人黄益芬;巫肖南
地址 韩国仁川市
入库时间 2022-08-23 08:56:46
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2015-10-28
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03F 7/039 授权公告日:20040818 终止日期:20140825 申请日:20000825
专利权的终止
2004-08-18
授权
授权
2003-01-22
实质审查的生效
实质审查的生效
2002-11-06
公开
公开
2002-10-16
实质审查的生效
实质审查的生效
机译: 能够制备对远紫外光敏感的化学放大的抗蚀剂化合物有用的聚合物化合物的盐,包括该聚合物的聚合物,化学放大的抗蚀剂组合物以及采用化学方法配制的配制方法
机译: 聚合物,化学放大的抗蚀剂组合物以及使用所述化学放大的抗蚀剂组合物的图案化工艺
机译: 化学放大的抗蚀剂单体,化学放大的抗蚀剂聚合物,化学放大的抗蚀剂组合物,图案形成方法