公开/公告号CN102386182B
专利类型发明专利
公开/公告日2014-11-05
原文格式PDF
申请/专利权人 万国半导体股份有限公司;
申请/专利号CN201110200041.1
申请日2011-07-06
分类号H01L27/02(20060101);H01L29/78(20060101);H01L21/82(20060101);
代理机构31249 上海信好专利代理事务所(普通合伙);
代理人张静洁;徐雯琼
地址 美国加利福尼亚桑尼维尔奥克米德公园道475号
入库时间 2022-08-23 09:22:08
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2014-11-05
授权
授权
2012-05-02
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 27/02 申请日:20110706
实质审查的生效
2012-03-21
公开
公开
机译: 场效应管N沟道MOSFET器件,曾经是电子设备的可编程存储单元,其源极的掺杂比漏极高,其中从沟道到漏极的掺杂杂质浓度梯度很高
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